又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备 常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶......
