什么是磁控溅射

发布时间：2025-10-06 | 来源：互联网转载和整理

磁控溅射原理：用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面，固体表面的原子，分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量，它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜，称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材，击出阴极靶材的原子或分子，使其飞向被镀基片的表面沉积成有色的金属导申薄膜。